氧化中各化學成份 與工藝參數(shù)的影響

1.磷酸是成膜的首要 成份 ，若不含磷酸則不克不及 成膜。含量低于50g/l和高于80g/l時膜薄，抗飾能力較低。

2.鉻酐是氧化劑，是成膜的需要 成份 ，若溶液中不含鉻酐，溶液的衣飾 性就增強 ，很難成膜。鉻酐到達 7g/l以上可成膜，但不宜跨越 28g/l。

3.氟化氫銨是溶液的活化劑，與磷酸.鉻酐相互 協(xié)同而生成致密的膜層。若含量低于1.5g/l不克不及 成膜，3g/l以上才能取得 抗飾性好的膜層。然則 含量太高 ，成膜太快太厚反而致使 膜層松散 。

4硼酸插足硼酸是為了節(jié)制 氧化回響反映 速度和改良 膜層的外不雅 ，使膜層更加 密致。

5.磷酸氫二銨起不亂 感化 ，進一步改良 鍍層溫度。

6.溫度當溶液工作正常時，溫度是決意 膜層質(zhì)量的最好身分 。低于20攝氏度膜薄而耐飾性差，高于40攝氏度膜過厚而松散 ，最好在30-35攝氏度下進行。

7.時候 要按照溶液的氧化能力和溫度來決意 氧化時候 。若溫度較高，溶液氧化能力較強，氧化時候 要恰當 縮短，反之則相對耽誤 。